REM Bild ein Luftbrücke, die mit Hilfe von Elektronenstrahl Lithographie und einem Drei Schicht Lacksystem hergestellt wurde. Verdampft wurden 25 nm Ti und 300 nm Au. Die Brücke ist 3 micron lang und 400 nm hoch.
Probenherstellung, REM-Bildaufnahme: Leonid Litvin